其他產(chǎn)品及廠家

化學機械拋光設備
cp-4是世界最通用和最先進的臺式化學機械拋光設備(cmp),可以很好的滿足您的研發(fā)需求。完全軟件控制,可以對直徑4英寸的晶圓和磁盤進行拋光。 cetr-cp-4可檢測原位摩擦力,摩擦系數(shù),溫度,下壓力,磨損,聲發(fā)射等,可以模擬所有的參數(shù),如速度,負載和流量,來模仿一個大的cmp系統(tǒng)。
更新時間:2025-12-02
電化學腐蝕摩擦磨損
納米,宏觀和微觀尺度上的多重測試:- 靜態(tài)和動態(tài)摩擦- 載荷范圍:1 mn 至 1 kn- 可控溫度范圍:-25 to 150℃- 可控濕度范圍:10 to 95% rh- ph值可測- 超低速(0.1微米/秒)粘滑測試- 摩擦磨損測試- 線性運動:運動頻率范圍0.1 to 60 hz,運動范圍:50 μm to 25 mm$r
更新時間:2025-12-02
真空摩擦磨損試驗機
可進行納米,宏觀和微觀尺度上的多重測試:- 靜態(tài)和動態(tài)摩擦測試- 超低速(0.1微米/秒)粘滑測試- 粗糙度,摩擦磨損測試- 四球試驗,等等
更新時間:2025-12-02

最新產(chǎn)品

熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計(PH計) 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質(zhì) 生物試劑