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cp-4是世界最通用和最先進的臺式化學機械拋光設備（cmp），可以很好的滿足您的研發(fā)需求。完全軟件控制，可以對直徑4英寸的晶圓和磁盤進行拋光。 cetr-cp-4可檢測原位摩擦力，摩擦系數(shù)，溫度，下壓力，磨損，聲發(fā)射等，可以模擬所有的參數(shù)，如速度，負載和流量，來模仿一個大的cmp系統(tǒng)。
更新時間:2025-12-02
納米，宏觀和微觀尺度上的多重測試：- 靜態(tài)和動態(tài)摩擦- 載荷范圍：1 mn 至 1 kn- 可控溫度范圍：-25 to 150℃- 可控濕度范圍：10 to 95% rh- ph值可測- 超低速（0.1微米/秒）粘滑測試- 摩擦磨損測試- 線性運動：運動頻率范圍0.1 to 60 hz，運動范圍：50 μm to 25 mm$r
更新時間:2025-12-02
可進行納米，宏觀和微觀尺度上的多重測試：- 靜態(tài)和動態(tài)摩擦測試- 超低速（0.1微米/秒）粘滑測試- 粗糙度，摩擦磨損測試- 四球試驗，等等
更新時間:2025-12-02
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