其他產品及廠家
kodak q-13等于tiffen天芬q13校色板；kodak q-13色卡已在市場中消失，現在只有kodak的代工廠tiffen的q-13，所以tiffen q-13就是kodak q-13，品質規(guī)格都完全一樣，唯一區(qū)別在于包裝上的品牌標示不同而已。
更新時間:2025-06-16
zjj geco-gering比重計 geco-gering精密比重計是測量儀器是*的科學實驗室，以及在各種工業(yè)控制。它們被用來測量不同組分的液體、溶液和液體混合物的密度。geco-gering比重計、geco-gering密度計
更新時間:2025-06-13
federal signal報警器、federal signal報警燈、federal signal旋轉警示燈，federal signal聲光報警器，federal signal安全警示燈，federal signal閃光警燈。
更新時間:2025-06-13
菲尼克斯是一個綜合化的電器電子元器件公司，1993年成立于中國，其主體產業(yè)遍及化工、冶金、通訊、物流，造紙、汽車制造、煙草機械，以及風力發(fā)電和能源制造等領域，共計6萬多種產品，年營業(yè)額達10億歐元
更新時間:2025-06-13
insulcast成立于1972年，已廣泛應用于航空航天、汽車、電子、發(fā)電、電信和公用事業(yè)等多個市場。這些產品廣泛應用于點火線圈、印刷電路板、電動汽車電池、高壓電源、變壓器和其他關鍵電子設備。
更新時間:2025-06-13
pmgi&lor光刻膠可在數據存儲、無線ic和mems等各種應用中實現高產量，金屬剝離工藝。 在雙層光刻膠層使用時，pmgi和lor將工藝范圍擴展到單層光刻膠層所能達到的范圍之外，包括高分辨率金屬化( 4µm)金屬化。這些獨特的性能適用于多種材料，可滿足客戶的各種需要。
更新時間:2025-06-13
dow陶氏 顯影液mf-20a mf-300系列 mf-26a mf-319
更新時間:2025-06-13
futurrex 刻蝕工藝負性光刻膠nr7-250p nr9-1000p.
更新時間:2025-06-13
microchem su-8光刻膠是一種基于環(huán)氧su-8樹脂的環(huán)氧型的、近紫外負性光刻膠，該系列光刻膠性能優(yōu)良，主要用于厚襯底上需要高深寬比時的應用？蓪贤饩（365nm）照射進行光成像，形成的固化膜或微結構具有出色的熱穩(wěn)定和機械穩(wěn)定性，并耐溶劑和酸堿腐蝕，使其非常適合制造永久性結構，例如像素墻，流體通道和噴嘴，微陣列和墊片等。
更新時間:2025-06-13
az®40 xt的應用始于15-30 µm，在這個厚度范圍時，由于n2脫氣和再水化延遲時間，使用常規(guī)正性光刻膠的光刻工藝變得非常耗時，而az®40 xt可以避免這個問題 。即使對于非常大的光刻膠膜厚度，az®40 xt也只需
更新時間:2025-06-13
az ® 4500系列（az ® 4533和az ® 4562）是正性厚光刻膠，在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能.
更新時間:2025-06-13
pmma（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統。pmma光刻膠是將pmma聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會導致聚合物鏈斷裂。pmma常用作直寫式電子束的高分辨率正性光刻膠，它具有高的分辨率，易于處理和出色的薄膜特性。pmma還可用作晶圓薄化的保護涂層，粘結粘合劑和刻蝕層。
更新時間:2025-06-13
duplomatic密封套件sk/hc2系列sk/hc2-50/36-v/20技術參數及選型
更新時間:2025-06-13
abb定位器v18345.20.2.0.1.2.1.00.1參數描述
更新時間:2025-06-13
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