光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家

交互虛擬現(xiàn)實開發(fā)平臺
交互虛擬現(xiàn)實開發(fā)平臺vizard虛擬現(xiàn)實軟件工具包括建立互動的3d內(nèi)容所需要的一切遵循快速原型設(shè)計原則，vizard使您快速創(chuàng)建內(nèi)容并提供豐富資源庫，甚至zui具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用案例。使用vizard，甚至沒有編程經(jīng)驗的人也可以輕松建立互動的3d內(nèi)容：快速呈現(xiàn)互動3d刺激：有豐富的資源庫，無論有無編程經(jīng)驗，都可以快速地呈現(xiàn)刺激;
更新時間:2025-12-03
ergolab虛擬仿真教學(xué)實驗平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學(xué)實驗平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認知與心理測試、生理測量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時間:2025-12-03
PsyLAB人因測試云平臺
psylab人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式的施測。系統(tǒng)
更新時間:2025-12-03
解決方案ErgoLABInteraction交互行為分析平臺
ergolab interaction交互行為分析平臺一、產(chǎn)品簡介ergolab interaction交互行為分析平臺，是津發(fā)科技依據(jù)“人因工程與工效學(xué)”和“人-信息-物理系統(tǒng)”理論自主研發(fā)的、面向產(chǎn)品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測評與分
更新時間:2025-12-03
解決方案ErgoLAB虛擬仿真教學(xué)實訓(xùn)平臺
ergolab虛擬仿真教學(xué)實訓(xùn)平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學(xué)實訓(xùn)平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認知與心理測試、生理測量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時間:2025-12-03
解決方案ErgoLAB組合式智能可穿戴生理測量平臺
ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺一、平臺概述ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司自主研發(fā)的可穿戴便攜式生理信號記錄工具，適用于多種實驗環(huán)境。平臺采用多傳感器融合技術(shù)及算法，單個傳感器能夠采集多通道生
更新時間:2025-12-03
解決方案PsyLAB心理評估云平臺系統(tǒng)
psylab心理評估云平臺系統(tǒng)一、系統(tǒng)簡介psylab心理評估云平臺系統(tǒng)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
更新時間:2025-12-03
解決方案PsyLAB人因測試與評估云平臺
psylab人因測試與評估云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab人因測試與評估云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及
更新時間:2025-12-03
解決方案PsyLAB智能人因測試云平臺
psylab智能人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab智能人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為
更新時間:2025-12-03
解決方案PsyLAB心理測試云平臺
psylab心理測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab心理測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式
更新時間:2025-12-03
Vizard交互虛擬現(xiàn)實開發(fā)平臺
vizard交互虛擬現(xiàn)實開發(fā)平臺
更新時間:2025-12-03
ErgoLAB人機環(huán)境同步云平臺
津發(fā)公司自豪地給大家介紹ergolab人機環(huán)境同步平臺。人機環(huán)境同步平臺是由津發(fā)公司安全獨立自主開發(fā)的系統(tǒng)，是一個專業(yè)用于收集、分析和演示人因工程、安全人機工程研究中人機環(huán)境數(shù)據(jù)采集且操作簡便的多元數(shù)據(jù)同步分析平臺。該系統(tǒng)與許多人因工程學(xué)、
更新時間:2025-12-03
ANSYS自動駕駛仿真驗證平臺
1.      系統(tǒng)方案ansys高精度自動駕駛仿真驗證平臺提供了基于物理的三維場景建模、基于語義的道路事件建模、基于物理光學(xué)屬性的攝像頭和激光雷達的仿真、基于物理電磁學(xué)屬性的毫米波雷達的仿真，從而實現(xiàn)多傳感器
更新時間:2025-12-03
AEROTECH直線平臺
aerotech直線平臺ant95l系列階段是世界上領(lǐng)銜的直驅(qū)納米級定位系統(tǒng)，具有大于25毫米的行程。ant95l和ant95l- plus交叉滾輪工作臺在速度、精度、分辨率、重復(fù)性、可靠性和尺寸方面都是同類產(chǎn)品中zhui好的，并有兩個精度等級。這些線性級顯示高達5g的加速度，500毫米/秒的速度，增強的負載能力，并可與標準化，通用的基礎(chǔ)安裝模式，使他們在廣泛的配置使用。
更新時間:2025-12-02
雅科貝思Akribis雙導(dǎo)軌直線電機平臺
雅科貝思akribis雙導(dǎo)軌直線電機平臺采用akribis直線電機系統(tǒng)，采用akribis直線電機對模組進行直接驅(qū)動。兩種型號電機可供選擇: aum系列（無鐵芯電機）ajm & akm系列（有鐵芯電機）。具有高剛性以及高穩(wěn)定性的特點，作為akribis標準模組采用高精度的光柵編碼器系統(tǒng)為客戶提供方便快捷的模組制定方案。
更新時間:2025-12-02
Akribis雅科貝思多軸定位平臺
akribis雅科貝思多軸定位平臺ams/amr系列 (雅科貝思迷你旋轉(zhuǎn)平臺），低齒槽效應(yīng)，良好的重復(fù)定位精度，采用雅科貝思迷你旋轉(zhuǎn)電機系統(tǒng)。適用于輕負載，小尺寸環(huán)境。ams系列（雅科貝思迷你直線平臺），采用雅科貝思迷你直線電機系統(tǒng)。適用于輕載，小尺寸環(huán)境。
更新時間:2025-12-02
臺式三維原子沉積系統(tǒng)ALD
美arradiance 臺式三維原子沉積系統(tǒng)ald，在小巧的機身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可最多容納9片8英寸基片同時沉積。gemstar xt全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設(shè)計，使溫度均勻性高達99.9%，氣流對溫度影響減少到0.03%以下。
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 等離子體增強--原子層沉積系統(tǒng)
德國 sentech pe-ald 等離子體增強--原子層沉積系統(tǒng)，是在3d結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步加入置物實現(xiàn)。等離子增強原子層沉積（peald）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來增強ald性能的先進方法。
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 等離子沉積機
德國 sentech si 500 d 等離子沉積機，具有特殊的等離子體特性，如高密度、低離子能量和介質(zhì)膜的低壓沉積。
更新時間:2025-12-02
德國sentech pecvd si 500 ppd等離子沉積機,。它是基于平面電容耦合等離子體源，真空加載鎖定，控溫基片電，可選配低頻混頻，全控無油真空系統(tǒng)采用先進的森泰克控制軟件，采用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)，具有非常友好的通用用戶界面用于操作si 500 ppd的用戶界面。
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 等離子沉積機
pecvd depolab 200 等離子體沉積機,將平行板等離子體源設(shè)計與直接負載相結(jié)合,可以升為更大的抽油機、低頻電源和額外的燃氣管道。
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 等離子刻蝕機
sentech etchlab200 經(jīng)濟型反應(yīng)離子刻蝕機(可升級)，包括抽速更大的真空單元、預(yù)真空室及附加氣路等。
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 等離子刻蝕機
etchlab 200 rie等離子體蝕刻機是一種將rie平行板電設(shè)計的優(yōu)點與直接負載的低成本設(shè)計相結(jié)合的直接負載等離子體蝕刻機系列。etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a‰mm或300a‰mm直徑的晶圓片直接加載到電或載體上。
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 反應(yīng)離子刻蝕機
entech rie si591 平板電容式反應(yīng)離子刻蝕機，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 等離子刻蝕機
德國sentech icp-rie si 500 等離子刻蝕機，代表了電感耦合等離子體(icp)加工在研究和生產(chǎn)上的先優(yōu)勢。它以ptsa等離子體源、動態(tài)控溫基片電、全控真空系統(tǒng)、先進的sentech 控制軟件為基礎(chǔ)，采用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)，為操作si 500提供了非常人性化的通用用戶界面。靈活性和模塊化是si 500的設(shè)計特點。
更新時間:2025-12-02
德國 Sentech 等離子體 ICP 干法刻蝕機
sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統(tǒng)，感應(yīng)耦合等離子刻蝕機臺，低損傷納米結(jié)構(gòu)刻蝕，高速率刻蝕，內(nèi)置icp等離子源，動態(tài)溫控。
更新時間:2025-12-02
紫外單面光刻機
ure-2000系列紫外單面光刻機，主要型號有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中國科學(xué)院制造生產(chǎn)。
更新時間:2025-12-02
紫外單面光刻機
ure-2000/a8 紫外單面光刻機，中科院設(shè)計生產(chǎn)。曝光面積： 200mm×200mm
更新時間:2025-12-02
紫外單面光刻機
ure-2000a 型紫外單面光刻機，中科院設(shè)計生產(chǎn)，曝光面積：150mmx150mm
更新時間:2025-12-02
紫外單面光刻機
ure-2000b 型紫外單面光刻機，中科院設(shè)計生產(chǎn)，曝光面積：100mmx100mm
更新時間:2025-12-02
紫外單面光刻機
ure-2000/35 型紫外單面光刻機，中科院設(shè)計生產(chǎn)，曝光面積：4 英寸 ，非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學(xué)科研 （可靠性好，演示方便） 。
更新時間:2025-12-02
芬蘭 PICOSUN 原子層沉積機
芬蘭 picosun r-200標準型ald,為液體、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。 在最基本的picosun™ r系列配置中可以選擇多個獨立的，完全分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。
更新時間:2025-12-02
PICOSUN 生產(chǎn)型原子層沉積機
德國 picosun p-1000 pro ald 生產(chǎn)型原子層沉積機,156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（雙面/背對背）,高達400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（雙面/背對背）,(w x h x d) 230 cm x 270 cm x 125 cm,標準設(shè)備驗收標準為 al2o3 工藝.
更新時間:2025-12-02
高級型原子層沉積機
picosun p-300 advanced ald 高級型原子層沉積機.156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對背），高達300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對背）；roll-to-roll, 襯底最大寬 300 mm。全自動轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機器人實現(xiàn),標準設(shè)備驗收標準為 al2o3 工藝 .
更新時間:2025-12-02
高級原子沉積機
picosun p-300b advanced ald 高級原子沉積機,基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標準間距）,200mm晶圓25+2片/批次（標準間距）,(w x h x d) 149 cm x 191 cm x 111 cm,標準設(shè)備驗收標準為 al2o3 工藝.
更新時間:2025-12-02
生產(chǎn)線型原子層沉積機
p-300s 生產(chǎn)線型原子層沉積機,最大300mm晶圓/單片,25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用picoplatform™ 300集群系統(tǒng)實現(xiàn),尺寸：(w x h x d) 160 cm x 80 cm x 240 cm
更新時間:2025-12-02
生產(chǎn)型原子層沉積機
p-300f,p-300bv 生產(chǎn)型原子層沉積機，p-300f pro: 27片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系統(tǒng)實現(xiàn)。p-300bv pro: 52片晶圓盒對盒式全自動裝載，用真空批量load lock實現(xiàn)。
更新時間:2025-12-02
生產(chǎn)型原子層沉積機
picosun p-200s pro ald 生產(chǎn)型原子層沉積機 ，襯底尺寸和類型： 。50 – 200 mm /單片 。156 mm x 156 mm 太陽能硅片 。150 mm x 150 mm 顯示面板
更新時間:2025-12-02
高級型原子層沉積機
芬蘭picosun™ r-200高級型 ald，襯底尺寸和類型 ： 。50-200 mm /單片 。156 mm x 156 mm太陽能硅片 。3d復(fù)雜表面襯底 。粉末與顆粒 。roll-to-roll , 襯底最大寬 70 mm 。多孔，通孔，高深寬比（har）樣品
更新時間:2025-12-02
標準型原子層沉積機ALD
picosun™ r-200標準型原子層沉積機，picosun™ r系列設(shè)備提供高質(zhì)量ald薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)極佳的均勻性，包括最具挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。 我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。
更新時間:2025-12-02
牛津等離子體刻蝕機
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機,是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時間:2025-12-02
等離子去膠機(灰化)
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機,是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時間:2025-12-02
牛津ICP等離子沉積機
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等離子沉積機，是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高性能工藝。
更新時間:2025-12-02
牛津Oxford等離子刻蝕與沉積設(shè)備
牛津oxford system 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,該設(shè)備是一個靈活和功能強大的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備,具有工藝靈活性，適用于化合物半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機電系統(tǒng)和微流體技術(shù).
更新時間:2025-12-02
英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機
plasmapro 80 icp 英國牛津oxford 等離子體刻蝕機,是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開式設(shè)計允許快速的進行晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計和少量生產(chǎn)的理想選擇。 該設(shè)備通過優(yōu)化了的電冷卻技術(shù)和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。
更新時間:2025-12-02
牛津開放式樣品載入ALD設(shè)備
牛津opal開放式樣品載入ald設(shè)備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ald）系統(tǒng)，opal提供了業(yè)的熱ald設(shè)備，可以簡單明了的升使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ald。
更新時間:2025-12-02
牛津離子束刻蝕機
已獲得利的高速襯底架（高達1000rpm）設(shè)計，并配備了白光光學(xué)監(jiān)視器（wlom）——更為準確的實時光學(xué)薄膜控制
更新時間:2025-12-02
牛津深硅刻蝕系統(tǒng)
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機械系統(tǒng)（mems）、 先進封裝以及納米技術(shù)市場的各種工藝要求。考慮到研究和生產(chǎn)的市場發(fā)展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時間:2025-12-02
牛津原子層刻蝕機
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機，市場應(yīng)用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
更新時間:2025-12-02
紫外單面光刻機
ure-2000 系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2025-12-02

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計（PH計） 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質(zhì) 生物試劑