光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家
psylab人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab人因測(cè)試與評(píng)估云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問卷、量表以及
更新時(shí)間:2025-12-03
psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問卷、量表以及行為
更新時(shí)間:2025-12-03
psylab心理測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab心理測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問卷、量表以及行為實(shí)驗(yàn)范式
更新時(shí)間:2025-12-03
津發(fā)公司自豪地給大家介紹ergolab人機(jī)環(huán)境同步平臺(tái)。人機(jī)環(huán)境同步平臺(tái)是由津發(fā)公司安全獨(dú)立自主開發(fā)的系統(tǒng)，是一個(gè)專業(yè)用于收集、分析和演示人因工程、安全人機(jī)工程研究中人機(jī)環(huán)境數(shù)據(jù)采集且操作簡(jiǎn)便的多元數(shù)據(jù)同步分析平臺(tái)。該系統(tǒng)與許多人因工程學(xué)、
更新時(shí)間:2025-12-03
1. 系統(tǒng)方案ansys高精度自動(dòng)駕駛仿真驗(yàn)證平臺(tái)提供了基于物理的三維場(chǎng)景建模、基于語義的道路事件建模、基于物理光學(xué)屬性的攝像頭和激光雷達(dá)的仿真、基于物理電磁學(xué)屬性的毫米波雷達(dá)的仿真，從而實(shí)現(xiàn)多傳感器
更新時(shí)間:2025-12-03
aerotech直線平臺(tái)ant95l系列階段是世界上領(lǐng)銜的直驅(qū)納米級(jí)定位系統(tǒng)，具有大于25毫米的行程。ant95l和ant95l- plus交叉滾輪工作臺(tái)在速度、精度、分辨率、重復(fù)性、可靠性和尺寸方面都是同類產(chǎn)品中zhui好的，并有兩個(gè)精度等級(jí)。這些線性級(jí)顯示高達(dá)5g的加速度，500毫米/秒的速度，增強(qiáng)的負(fù)載能力，并可與標(biāo)準(zhǔn)化，通用的基礎(chǔ)安裝模式，使他們?cè)趶V泛的配置使用。
更新時(shí)間:2025-12-02
雅科貝思akribis雙導(dǎo)軌直線電機(jī)平臺(tái)采用akribis直線電機(jī)系統(tǒng)，采用akribis直線電機(jī)對(duì)模組進(jìn)行直接驅(qū)動(dòng)。兩種型號(hào)電機(jī)可供選擇: aum系列（無鐵芯電機(jī)）ajm & akm系列（有鐵芯電機(jī)）。具有高剛性以及高穩(wěn)定性的特點(diǎn)，作為akribis標(biāo)準(zhǔn)模組采用高精度的光柵編碼器系統(tǒng)為客戶提供方便快捷的模組制定方案。
更新時(shí)間:2025-12-02
akribis雅科貝思多軸定位平臺(tái)ams/amr系列 (雅科貝思迷你旋轉(zhuǎn)平臺(tái)），低齒槽效應(yīng)，良好的重復(fù)定位精度，采用雅科貝思迷你旋轉(zhuǎn)電機(jī)系統(tǒng)。適用于輕負(fù)載，小尺寸環(huán)境。ams系列（雅科貝思迷你直線平臺(tái)），采用雅科貝思迷你直線電機(jī)系統(tǒng)。適用于輕載，小尺寸環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-12-02
美arradiance 臺(tái)式三維原子沉積系統(tǒng)ald，在小巧的機(jī)身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可最多容納9片8英寸基片同時(shí)沉積。gemstar xt全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設(shè)計(jì)，使溫度均勻性高達(dá)99.9%，氣流對(duì)溫度影響減少到0.03%以下。
更新時(shí)間:2025-12-02
德國(guó) sentech pe-ald 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積系統(tǒng)，是在3d結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步加入置物實(shí)現(xiàn)。等離子增強(qiáng)原子層沉積（peald）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來增強(qiáng)ald性能的先進(jìn)方法。
更新時(shí)間:2025-12-02
德國(guó) sentech si 500 d 等離子沉積機(jī)，具有特殊的等離子體特性，如高密度、低離子能量和介質(zhì)膜的低壓沉積。
更新時(shí)間:2025-12-02
德國(guó)sentech pecvd si 500 ppd等離子沉積機(jī),。它是基于平面電容耦合等離子體源，真空加載鎖定，控溫基片電，可選配低頻混頻，全控?zé)o油真空系統(tǒng)采用先進(jìn)的森泰克控制軟件，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)，具有非常友好的通用用戶界面用于操作si 500 ppd的用戶界面。
更新時(shí)間:2025-12-02
pecvd depolab 200 等離子體沉積機(jī),將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接負(fù)載相結(jié)合,可以升為更大的抽油機(jī)、低頻電源和額外的燃?xì)夤艿馈?/div>
更新時(shí)間:2025-12-02
sentech etchlab200 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí))，包括抽速更大的真空單元、預(yù)真空室及附加氣路等。
更新時(shí)間:2025-12-02
etchlab 200 rie等離子體蝕刻機(jī)是一種將rie平行板電設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)與直接負(fù)載的低成本設(shè)計(jì)相結(jié)合的直接負(fù)載等離子體蝕刻機(jī)系列。etchlab 200具有簡(jiǎn)單快速的樣品加載功能，從零件到200a‰mm或300a‰mm直徑的晶圓片直接加載到電或載體上。
更新時(shí)間:2025-12-02
entech rie si591 平板電容式反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件
更新時(shí)間:2025-12-02
德國(guó)sentech icp-rie si 500 等離子刻蝕機(jī)，代表了電感耦合等離子體(icp)加工在研究和生產(chǎn)上的先優(yōu)勢(shì)。它以ptsa等離子體源、動(dòng)態(tài)控溫基片電、全控真空系統(tǒng)、先進(jìn)的sentech 控制軟件為基礎(chǔ)，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)，為操作si 500提供了非常人性化的通用用戶界面。靈活性和模塊化是si 500的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-02
sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統(tǒng)，感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)臺(tái)，低損傷納米結(jié)構(gòu)刻蝕，高速率刻蝕，內(nèi)置icp等離子源，動(dòng)態(tài)溫控。
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000系列紫外單面光刻機(jī)，主要型號(hào)有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中國(guó)科學(xué)院制造生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000/a8 紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)。曝光面積： 200mm×200mm
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000a 型紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)，曝光面積：150mmx150mm
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)，曝光面積：100mmx100mm
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī)，中科院設(shè)計(jì)生產(chǎn)，曝光面積：4 英寸 ，非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動(dòng)化程度高）和高校教學(xué)科研 （可靠性好，演示方便） 。
更新時(shí)間:2025-12-02
芬蘭 picosun r-200標(biāo)準(zhǔn)型ald,為液體、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長(zhǎng)顆粒度最小的薄膜層。 在最基本的picosun™ r系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立的，完全分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。
更新時(shí)間:2025-12-02
德國(guó) picosun p-1000 pro ald 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī),156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（雙面/背對(duì)背）,高達(dá)400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（雙面/背對(duì)背）,(w x h x d) 230 cm x 270 cm x 125 cm,標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 al2o3 工藝.
更新時(shí)間:2025-12-02
picosun p-300 advanced ald 高級(jí)型原子層沉積機(jī).156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對(duì)背），高達(dá)300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對(duì)背）；roll-to-roll, 襯底最大寬 300 mm。全自動(dòng)轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機(jī)器人實(shí)現(xiàn),標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 al2o3 工藝 .
更新時(shí)間:2025-12-02
picosun p-300b advanced ald 高級(jí)原子沉積機(jī),基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）,200mm晶圓25+2片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）,(w x h x d) 149 cm x 191 cm x 111 cm,標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 al2o3 工藝.
更新時(shí)間:2025-12-02
p-300s 生產(chǎn)線型原子層沉積機(jī),最大300mm晶圓/單片,25片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載（cassette-to-cassette），用picoplatform™ 300集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn),尺寸：(w x h x d) 160 cm x 80 cm x 240 cm
更新時(shí)間:2025-12-02
p-300f,p-300bv 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)，p-300f pro: 27片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)。p-300bv pro: 52片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載，用真空批量load lock實(shí)現(xiàn)。
更新時(shí)間:2025-12-02
picosun p-200s pro ald 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī) ，襯底尺寸和類型： 。50 – 200 mm /單片 。156 mm x 156 mm 太陽能硅片 。150 mm x 150 mm 顯示面板
更新時(shí)間:2025-12-02
芬蘭picosun™ r-200高級(jí)型 ald，襯底尺寸和類型 ： 。50-200 mm /單片 。156 mm x 156 mm太陽能硅片 。3d復(fù)雜表面襯底 。粉末與顆粒 。roll-to-roll , 襯底最大寬 70 mm 。多孔，通孔，高深寬比（har）樣品
更新時(shí)間:2025-12-02
picosun™ r-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)，picosun™ r系列設(shè)備提供高質(zhì)量ald薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)極佳的均勻性，包括最具挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。 我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的，易更換的前驅(qū)源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長(zhǎng)顆粒度最小的薄膜層。
更新時(shí)間:2025-12-02
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時(shí)間:2025-12-02
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
更新時(shí)間:2025-12-02
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等離子沉積機(jī)，是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高性能工藝。
更新時(shí)間:2025-12-02
牛津oxford system 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,該設(shè)備是一個(gè)靈活和功能強(qiáng)大的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備,具有工藝靈活性，適用于化合物半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)和微流體技術(shù).
更新時(shí)間:2025-12-02
plasmapro 80 icp 英國(guó)牛津oxford 等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開式設(shè)計(jì)允許快速的進(jìn)行晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和少量生產(chǎn)的理想選擇。 該設(shè)備通過優(yōu)化了的電冷卻技術(shù)和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-12-02
牛津opal開放式樣品載入ald設(shè)備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ald）系統(tǒng)，opal提供了業(yè)的熱ald設(shè)備，可以簡(jiǎn)單明了的升使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ald。
更新時(shí)間:2025-12-02
已獲得利的高速襯底架（高達(dá)1000rpm）設(shè)計(jì)，并配備了白光光學(xué)監(jiān)視器（wlom）——更為準(zhǔn)確的實(shí)時(shí)光學(xué)薄膜控制
更新時(shí)間:2025-12-02
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)（mems）、 先進(jìn)封裝以及納米技術(shù)市場(chǎng)的各種工藝要求？紤]到研究和生產(chǎn)的市場(chǎng)發(fā)展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時(shí)間:2025-12-02
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機(jī)，市場(chǎng)應(yīng)用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000 系列紫外單面光刻機(jī)此系列包含六種型號(hào)：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000s 系列雙面光刻機(jī)，對(duì)準(zhǔn)精度：±2 mm（雙面,片厚 0.8mm），±0.8mm（單面）
更新時(shí)間:2025-12-02
adlema先進(jìn)的檢漏機(jī)bt4000技 術(shù) 規(guī) 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 電 源 輸 入 :24 vdc• 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
更新時(shí)間:2025-12-02
美國(guó)kla insem ht原位高溫納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)，納米壓痕儀，樣品加溫可達(dá)800 ℃，樣品尺寸可達(dá)10mm，裝樣系統(tǒng)與真空環(huán)境兼容
更新時(shí)間:2025-12-02
ure-2000/34al型光刻機(jī)，曝光分辨率： 0.8μm-1μm ，套準(zhǔn)精度：±0.8-1μm
更新時(shí)間:2025-12-02
德國(guó)yxlon多用途高分辨率ct系統(tǒng)ff35 ct,微焦點(diǎn)、納米焦點(diǎn)雙射線 源配置，大限度提高多 功能性 • 單或雙射線源配置，可大限度提高 ct 應(yīng)用 多功能性
更新時(shí)間:2025-12-02
oai 200型光刻機(jī)是一種具有成本效益的高性能掩模對(duì)準(zhǔn)器，采用經(jīng)過行業(yè)驗(yàn)證的組件，使oai成為光刻設(shè)備行業(yè)的導(dǎo)者。 200型是臺(tái)式面罩對(duì)準(zhǔn)器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調(diào)平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對(duì)準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。
更新時(shí)間:2025-12-02
30型uv光源是高效的，可用于各種應(yīng)用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產(chǎn)生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當(dāng)?shù)臒簦òǎ。輸出功率范圍?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜？蛇x配遠(yuǎn)程排氣風(fēng)扇。
更新時(shí)間:2025-12-02
最新產(chǎn)品
- 模塊LDZ10501351工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 12:19:23
- 控制器LDZ10501353自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:18:38
- 觸摸屏LDZ11500211.10自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:17:48
- 模塊LDZ085868C自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:17:01
- 觸摸屏LDZ10501352自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:16:15
- 模塊LDZ10501526自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:15:26
- 控制器LDZ10501502自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:14:38
- 控制器LDZ10501505自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:13:52
- 控制器LDZ10501508自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:13:05
- 控制器LDZ10501652工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 12:12:07
- 觸摸屏LDZ10501502自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:11:11
- 觸摸屏LDZ10501463自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:10:15
- 模塊LDZ10501951自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:09:14
- 控制器LDZ10501352自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:08:20
- 觸摸屏LDZ10501952工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 12:07:36
- 控制器LDZ10501603自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:06:49
- 控制器LDZ10501353工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 12:05:58
- 模塊LDZ10501352工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 12:05:11
- 模塊LDZ10501502工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 12:04:23
- 控制器A1A094595自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:03:36
- 模塊LDZ10501505自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:02:54
- 模塊LDZ11500211.10自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:02:09
- 觸摸屏LDZ10501508自動(dòng)化儀器 2025/12/4 12:01:28
- 控制器A1A094726工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 12:00:40
- 控制器LDZ10501504自動(dòng)化儀器 2025/12/4 11:59:51
- 觸摸屏LDZ10501506工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 11:59:04
- 控制器LDZ10501352工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 11:58:13
- 控制器LDZ10501506自動(dòng)化儀器 2025/12/4 11:57:20
- 控制器LDZ10501351工業(yè)設(shè)備 2025/12/4 11:56:31
- 控制器LDZ10501951自動(dòng)化儀器 2025/12/4 11:55:47